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Evap-4 Power Supply電子束(shù)蒸發電壓控(kòng)製器用於(yú)電子束蒸發(fā)器,具有高(gāo)效,緊湊(còu)的(dí)4通道,具備(bèi)共蒸發能(néng)力。迷(mí)你電子束蒸發(fā)器能夠在(zài)沉(chén)積(jī)常見(jiàn)工藝(yì)金屬(如金,銀(yín)和鉻)時(shí)提供佳的控製力(lì),並且與(yǔ)熱舟源相比,對基(jī)底(dǐ)和周(zhōu)圍(wéi)環境(jìng)的(dí)熱(rè)負荷極小。
Mini E-Beam Evaporator小(xiǎo)型電(diàn)子束蒸發器(qì)是(shì)一種(zhǒng)用(yòng)於高精度(dù)薄膜(mó)沉(chén)積的edge-cutting工(gōng)具(jù)。它適用於研(yán)究(jiū)和生產環境(jìng),這(zhè)種緊湊的(dí)係(xì)統利(lì)用電(diàn)子束(shù)直(zhí)接(jiē)加熱(rè)坩(gān)堝中(zhōng)的蒸發(fā)物,能夠以(yǐ)的控(kòng)製(zhì)力(lì)沉積金(jīn)屬(shǔ)。與(yǔ)傳統(tǒng)的(dí)熱(rè)蒸發(fā)方法相(xiāng)比,Mini E-Beam Evaporator具(jù)有(yǒu)更(gēng)高的效率(shuài),對(duì)基底的熱負(fù)荷更低(dī),並且(qiě)能(néng)夠(gòu)同時(shí)共蒸(zhēng)發多種(zhǒng)材料(liào),使其(qí)成為(wéi)各種塗(tú)層應用中多(duō)功能且(qiě)可(kě)靠(kào)的解決(jué)方案。
Nikalyte NL-UHV磁控濺射儀(yí)能(néng)夠在超(chāo)真空(kōng)中生成(chéng)和沉積納(nà)米(mǐ)顆粒,以在(zài)樣品上(shàng)創(chuàng)建功能化(huà)表麵。 可(kě)以通過精確控製(zhì)納米(mǐ)顆粒(lì)的(dí)尺寸(cùn),組成(chéng)和結構來(lái)定製納米(mǐ)顆(kē)粒(lì)塗(tú)層的特性,從(cóng)而(ér)實(shí)現定(dìng)製(zhì)化特(tè)性(xìng)。
Nikalyte NL-UHV超(chāo)高真空納(nà)米(mǐ)顆(kē)粒(lì)沉(chén)積(jī)源允許(xǔ)將(jiāng)超純(chún)納(nà)米顆粒直接沉積(jī)在各種(zhǒng)基底和材料上。可(kě)以(yǐ)調整膜(mó)的密度,並且(qiě)塗(tú)層(céng)能(néng)夠很(hěn)好地附(fù)著在樣(yàng)品(pǐn)表麵。 NL-UHV有(yǒu)多種配置(zhì)可供選擇,包括(kuò)單個1英(yīng)寸(cùn)和2英(yīng)寸源,以及三重(zhòng)1英寸源NL-DX3,後者允(yǔn)許單獨(dú)或(huò)作(zuò)為(wéi)合金沉積(jī)多(duō)達三(sān)種材料。
NL-QMS磁控濺射納(nà)米顆粒尺寸控製(zhì)係統能夠實時監(jiān)測納(nà)米顆(kē)粒(lì)的尺(chǐ)寸(cùn)分(fēn)布(bù),通(tōng)過(guò)質(zhì)量過濾(lǜ)器按(àn)質量(liáng)或直徑(jìng)實時掃(sǎo)描或過(guò)濾沉(chén)積的納(nà)米顆粒,從而(ér)促進生(shēng)長條件的優(yōu)化。
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